Новости и информация

Цзэюй Технологии | От физических шаблонов к цифровому световому полю: как технология безмасочного литографирования перестраивает парадигму исследований и разработок в области микро‑ и нанообработки

В области микро‑ и наноинженерии пропасть между цифровым проектом, основанным на САПР, и функциональным физическим устройством заполняется серией высокоточных технологических процессов; при этом литография несомненно выступает краеугольным камнем, определяющим геометрию устройства. Для компаний, глубоко специализирующихся в сфере электронной микроскопии и системах in situ‑измерений и обладающих многолетними техническими наработками, расширение границ возможностей обычно следует чёткой физической логике — от «наблюдения» за микромиром до его «модификации». Именно под воздействием этой логики и появляются передовые решения для микро‑ и нанообработки.

17

2025

/

09

Цзэюй Технологии | Ключевая основа обработки квантовых чипов: принципы и применение технологии электронно-лучевой литографии

Квантовый чип является «мозгом» квантового компьютера; его ключевая роль сопоставима с ролью центрального процессора (CPU) в традиционных вычислительных системах. Однако, в отличие от традиционных микросхем, которые осуществляют вычисления на основе классических битов — «0» и «1», квантовые чипы реализуют вычисления за счёт квантово‑механических свойств кубитов; при этом достижение этих свойств невозможно без точной поддержки со стороны технологии электронно‑лучевой литографии. В данной статье, исходя из сути кубита, мы проанализируем его связь с электронно‑лучевой литографией и рассмотрим, как гибридные методы литографии могут решить проблему массового производства квантовых чипов.

17

2025

/

09

Цзэюй Технологии | Ступенчатый измеритель: инструмент для точного анализа микроструктуры — принципы, технологии и промышленные применения

В сфере точного производства и передовой научной исследовательской деятельности количественная характеристика микроскопической морфологии поверхности является ключевым этапом, обеспечивающим эксплуатационные свойства изделий и стимулирующим технологические инновации. Степпер‑микроскопы, как высокоточные приборы для измерения поверхностей, благодаря точному определению таких параметров, как разность высот, шероховатость и толщина тонких пленок, предоставляют незаменимую техническую поддержку в таких областях, как полупроводниковая промышленность, наноматериалы и оптическая инженерия. В настоящей статье последовательно излагаются принципы работы степпер‑микроскопов и их технические характеристики, а также особое внимание уделяется инновационным достижениям степпер‑микроскопов компании «ZEPTOOLS» и областям их применения.

28

2025

/

08

Цзэюй Технологии | Вызовы, стоящие перед отечественной технологией коррекции эффекта близости в EBL

ЭБЛ, благодаря своим преимуществам — короткой длине волны электронов и отсутствию ограничений, связанных с дифракцией, — обладает более высоким теоретическим пределом разрешения по сравнению с оптической литографией и широко применяется в таких областях, как изготовление масок и разработка и производство малосерийных устройств. Однако, в отличие от оптической литографии, из‑за того, что электронный пучок подвергается предварительному рассеянию в резисте и одновременно взаимодействует с материалом подложки, вызывая обратное рассеяние, область воздействия пучка выходит за пределы первоначально заданной зоны, что приводит к снижению разрешения рисунка и появлению аномалий в размерах и морфологии; это явление широко известно среди исследователей как эффект соседства.

28

2025

/

08

< 1...192021...75 >