Главная
Продукт
Сканирующий электронный микроскоп
DMD‑литографический аппарат без маски
Электронно-лучевой литограф EBL
Ступенчатый инструмент
Текущие решения TEM
Нанометрическая станция
Приложения
Случай применения
Новости компании
Техническая информация
О ZEPTOOLS
О компании
Подбор персонала
Свяжитесь
Контактная информация
Онлайн сообщение
Язык
中文简体
English
Russian
Новости и информация
Знание продукта
Цзэюй Технологии | От физических шаблонов к цифровому световому полю: как технология безмасочного литографирования перестраивает парадигму исследований и разработок в области микро‑ и нанообработки
В области микро‑ и наноинженерии пропасть между цифровым проектом, основанным на САПР, и функциональным физическим устройством заполняется серией высокоточных технологических процессов; при этом литография несомненно выступает краеугольным камнем, определяющим геометрию устройства. Для компаний, глубоко специализирующихся в сфере электронной микроскопии и системах in situ‑измерений и обладающих многолетними техническими наработками, расширение границ возможностей обычно следует чёткой физической логике — от «наблюдения» за микромиром до его «модификации». Именно под воздействием этой логики и появляются передовые решения для микро‑ и нанообработки.
17
2025
/
09
Цзэюй Технологии | Ключевая основа обработки квантовых чипов: принципы и применение технологии электронно-лучевой литографии
Квантовый чип является «мозгом» квантового компьютера; его ключевая роль сопоставима с ролью центрального процессора (CPU) в традиционных вычислительных системах. Однако, в отличие от традиционных микросхем, которые осуществляют вычисления на основе классических битов — «0» и «1», квантовые чипы реализуют вычисления за счёт квантово‑механических свойств кубитов; при этом достижение этих свойств невозможно без точной поддержки со стороны технологии электронно‑лучевой литографии. В данной статье, исходя из сути кубита, мы проанализируем его связь с электронно‑лучевой литографией и рассмотрим, как гибридные методы литографии могут решить проблему массового производства квантовых чипов.
Цзэюй Технологии | Ступенчатый измеритель: инструмент для точного анализа микроструктуры — принципы, технологии и промышленные применения
В сфере точного производства и передовой научной исследовательской деятельности количественная характеристика микроскопической морфологии поверхности является ключевым этапом, обеспечивающим эксплуатационные свойства изделий и стимулирующим технологические инновации. Степпер‑микроскопы, как высокоточные приборы для измерения поверхностей, благодаря точному определению таких параметров, как разность высот, шероховатость и толщина тонких пленок, предоставляют незаменимую техническую поддержку в таких областях, как полупроводниковая промышленность, наноматериалы и оптическая инженерия. В настоящей статье последовательно излагаются принципы работы степпер‑микроскопов и их технические характеристики, а также особое внимание уделяется инновационным достижениям степпер‑микроскопов компании «ZEPTOOLS» и областям их применения.
28
08
Фотолитографический станок без маски компании ZEPTOOLS | Описание технологического процесса — гравировка электродов с линией шириной 1 мкм
В предыдущем выпуске мы рассказали о применении технологии безмасочного фотолитографирования в области двумерных материалов; по мере углубления исследований учёных требования к ширине линий фотолитографируемых электродов неуклонно возрастают.
Цзэюй Технологии | Вызовы, стоящие перед отечественной технологией коррекции эффекта близости в EBL
ЭБЛ, благодаря своим преимуществам — короткой длине волны электронов и отсутствию ограничений, связанных с дифракцией, — обладает более высоким теоретическим пределом разрешения по сравнению с оптической литографией и широко применяется в таких областях, как изготовление масок и разработка и производство малосерийных устройств. Однако, в отличие от оптической литографии, из‑за того, что электронный пучок подвергается предварительному рассеянию в резисте и одновременно взаимодействует с материалом подложки, вызывая обратное рассеяние, область воздействия пучка выходит за пределы первоначально заданной зоны, что приводит к снижению разрешения рисунка и появлению аномалий в размерах и морфологии; это явление широко известно среди исследователей как эффект соседства.
Цзэюй Технологии | На что следует обратить внимание при измерении с помощью ступенчатого измерителя?
Ступенчатый профилометр, будучи устройством для высокоточного измерения микрорельефа поверхности, характеризуется точностью и надёжностью результатов измерений, которые определяются множеством факторов.