DMD‑литографический аппарат без маски

Литографический аппарат без маски серии ZML

Разнообразие моделей 
Высокая эффективность, гибкость, высокое разрешение и высокая точность нанесения масок

Характеристический размер 0,5 мкм | Высокоточная шаговая литография

Литографический станок ZML серии DMD компании ZEPTOOLS, использующий передовую технологию прямой записи на цифровых микрозеркалах, позволяет гибко осуществлять точное экспонирование произвольных микро‑ и нано‑структур без применения традиционных масок; обладает выдающейся точностью обработки и стабильной качеством изображения. Оборудование выполнено в компактном форм-факторе, оснащено интеллектуальной системой автоматической фокусировки и интуитивно понятной операционной системой — оно простое в освоении и высокоэффективно в эксплуатации, существенно сокращая сроки НИОКР и снижая затраты на изготовление шаблонов. Широко применимо в таких областях, как микрофлюидика, MEMS, функциональные тонкие пленки, устройства на основе двумерных материалов и др., являясь идеальным оборудованием для микро‑ и нанообработки в лабораториях и при мелкосерийном опытном производстве, где важны высокая точность, гибкость и экономичность.

Основные технические параметры

Полный спектр решений — выберите подходящий вам литографический аппарат без маски.

Примеры применения

Высококачественная технология фотолитографии отвечает всем вашим требованиям.

▲ Литографические электроды из двумерных материалов (слева), фотодетектор (справа)

▲ Полупроводниковое устройство размером 20 мм × 20 мм, четырёхслойное совмещение шаблонов, минимальная ширина линии — 6 мкм.

▲ Микрофлюидный чип (слева), микрофлюидная матрица‑шаблон (справа)

▲ DMD‑установка для ультрафиолетового литографирования обеспечивает функцию совмещения масок

▲ Наносеточная структура из теллурида после травления с последующим нанесением электродов методом обрезки

▲ Фазовая литография с градиентом для изготовления линз Френеля [3D‑фазовая литография позволяет получить линзы Френеля; на поперечном срезе, полученном при сканирующей электронной микроскопии, видна непрерывная ступенчатая структура]

▲ Совместная литография УФ‑излучением и электронным пучком по технологии DMD [используются модели ZML10A и ZEL304G]

Больше примеров

Литографический станок DMD без маски компании «ZEPTOOLS» содействовал научной команде в публикации результатов в высокорейтинговых журналах.

▲ Найдите в WeChat поисковую строку: «Цзэюй Технологии», чтобы получить самые свежие и полные результаты научных публикаций.

▲ DMD‑проектор без маски компании «ZEPTOOLS» способствует созданию высококачественных кристаллических магнитных микроструктур радиального типа

▲ Применение безмасочного литографического оборудования компании Цзэюй в производстве MEMS‑датчиков давления

▲ Применение безмасочного литографического оборудования компании Цзэюй в подготовке гетероструктуры PtTe2/WS2/пирамидальный Si

▲ Технология DMD компании Цзэюй, использующая безмасочную литографию, обеспечивает эффективное изготовление бимодального оптоэлектронного детектора, имитирующего сетчатку глаза.

▲ Ключевая роль литографического станка DMD без маски компании «ZEPTOOLS» в процессе изготовления гетеропереходных фотодетекторов на основе SOI и PbSe

Начните путешествие в мир микро- и нанолитографии

Компания «ZEPTOOLS» самостоятельно разработала и предлагает комплексное решение для микро‑ и наноанализа.