Категория товаров
Система предварительного вакуумирования и хранения образцовых стержней
Система предварительной откачки и хранения образцов на образце
Система предварительной откачки и хранения образцовых стержней для просвечивающих электронных микроскопов PicoFemto (T‑station) состоит из встроенной импортной молекулярной насосной установки, камеры предварительной откачки образцового стержня и сенсорного дисплея. Она подходит для образцовых стержней всех марок просвечивающих электронных микроскопов, обеспечивает длительное поддержание высокого вакуума в стержне, сокращает время предварительной откачки при загрузке образцов и сохраняет чистоту стержня; в сочетании с микроскопической системой также позволяет проводить предварительную откачку и проверку на утечки жидкостных чипов и других образцов.
Принадлежность к категории:
Описание продукта
Пико Фемто Система предварительной откачки и хранения образцовых стержней для просвечивающих электронных микроскопов (T‑station) состоит из встроенного импортного молекулярного насоса, камеры предварительной откачки образцового стержня и сенсорного дисплея. Она подходит для образцовых стержней всех марок просвечивающих электронных микроскопов, обеспечивает длительное нахождение стержня в условиях высокого вакуума, сокращает время предварительной откачки при загрузке образцов, поддерживает чистоту стержня; в сочетании с микроскопической системой также позволяет проводить предварительную откачку и проверку на утечки жидкостных чипов и других объектов.
Это устройство, дополненное импортным модулем плазменной очистки, позволяет решать несколько задач: хранение образца в условиях высокого вакуума, удаление углеродных загрязнений с поверхности образца и улучшение гидрофильности чипа непосредственно в экспериментальной установке.
Рис. Система плазменной очистки образцовых стержней (T‑станция)
• Характеристики источника плазмы
△ Источник плазмы с индуктивной связью, с возможностью выбора и смешивания различных газовых каналов;
△ Способ плазменной очистки по течению, не вызывающий нагрева и повреждений вследствие сputtering‑эффекта; позволяет непосредственно обрабатывать образцы с углеродными мембранами для ТЭМ, не повреждая их и повышая качество изображения при низком напряжении.
△ При наличии опционального быстрого переключателя соединений источник плазмы может бесшовно переключаться между несколькими вакуумными камерами для очистки, что предотвращает влияние отложений углерода на разрешение и на анализ элементов в микрообъектах;
△ Интегрированный контроллер, чёткий и лёгкий для чтения, с точным дисплеем, управление через сенсорный экран, вакуум в режиме реального времени;
△ Высокопроизводительная молекулярная насосная установка, обеспечивающая долговременную стабильную поддержку высокого вакуума;
△ Интегрированный воздушный охладитель: используется для охлаждения внутренних компонентов, что позволяет обойтись без применения нескольких вентиляторов;
△ Цельнометаллический каркас, долговечный и надёжный.
△ Мощность регулируется непрерывно в диапазоне от 5 до 100 Вт, что позволяет пользователю подобрать оптимальную мощность для очистки;
△ Высоковакуумная камера, оснащённая молекулярным насосом с производительностью 84 л/с, позволяет достигать уровня вакуума порядка −4 Па;
△ Дополнительно можно установить три положения образцовых стержней;
Рекомендуемые товары
Получить последнюю версию справочника
Свяжитесь с нами
Телефон:15756003283
Электронная почта:support@zeptools.com
Адрес: провинция Аньхой, город Тунлинь, Электронный парк предпринимательства «Дунши», д. 15