Категория товаров
Электронно-лучевой литограф EBL
Установка для электронно-лучевой литографии EBL
Электронно‑лучевой литограф ZEL304G компании «Цэюй Технолоджи» оснащён высокопроизводительной электронной пушкой с полевым эмиттером и системой генерации рисунков высокой скорости, что обеспечивает высокоточную и высокоразрешённую литографию микрона‑ и наноструктур. Оборудование включает высокоточный лазерный интерферометрический образцетранспортёр, поддерживающий точное склеивание и совмещение по большим ходам, а также совместимо с различными форматами графических данных и автоматической экспозицией нескольких слоёв, что позволяет удовлетворять требованиям сложной микро‑ и нанофабрикации. Устройство широко применяется в таких областях, как фундаментальная физика, полупроводниковая технология, микроэлектроника, фотоника, квантовые исследования и разработка новых материалов, предоставляя стабильные и надёжные отечественные решения собственной разработки для научных инноваций и высокоточной микро‑ и нанофабрикации.
Принадлежность к категории:
Описание продукта
Электронно-лучевой литограф ZEL304G
Прямая литография с использованием электронного пучка
Высокоточный выбор для обработки микро- и наноструктур
Точное управление | Высокая эффективность и стабильность
Электронно‑лучевой литограф ZEL304G компании «Цэюй Технолоджи» оснащён высокопроизводительной электронной пушкой полевого эмиссии и скоростной системой формирования рисунков, что обеспечивает высокоточную и высокоразрешённую литографию микрона‑ и наноструктур. Оборудование комплектуется высокоточной лазерной интерферометрической образцовой платформой, поддерживающей точное склеивание и совмещение при больших ходовых перемещениях; оно совместимо с различными форматами графических файлов и поддерживает автоматическую экспозицию по нескольким слоям, удовлетворяя потребности в сложных процессах микро‑ и нанофабрикации. Устройство широко применяется в таких областях, как фундаментальная физика, полупроводниковая технология, микроэлектроника, фотоника, квантовые исследования и разработка новых материалов, предоставляя стабильные и надёжные отечественные решения собственной разработки для научных инноваций и высокоточной микро‑ и нанолитографии.
Основные технические параметры
Весь модельный ряд адаптирован к требованиям микро‑ и нанообработки — выбирайте высокопроизводительный электронно‑лучевой литограф, соответствующий вашим потребностям.
| Модель продукта | ZEL304G |
| Электронная пушка | Электронная пушка с полевой эмиссией Шоттки |
| Минимальная ширина линии при одном кадре экспозиции | < 10nm |
| Способ сканирования | Последовательное сканирование (Z‑образное), циклическое сканирование (S‑образное), спиральное сканирование и другие режимы векторного сканирования |
| Режим экспозиции | Поддержка калибровки поля, стыковки полей, наложения шаблонов и автоматической экспозиции для нескольких слоёв. |
| Поддержка внешнего канала | Поддержка сканирования электронным пучком, перемещения стола заготовки, включения‑выключения затвора пучка и детектирования вторичных электронов. |
Примеры применения
Высококачественная технология литографии отвечает всем вашим требованиям.
▲Тест на однородность
▲ Сращивание полей (измерение с помощью штангенциркуля) и тест на минимальную ширину линии
▲Клей HSQ
▲Акриловый клей
▲Тестирование толстого клея
▲Длинная решётка с бесшовным соединением
▲Функция коррекции ближнего эффекта электронного пучка · Эффект коррекции дозы
▲ Совместная литография с использованием ультрафиолетового излучения DMD и электронного пучка [в качестве моделей применялись ZML10A и ZEL304G]
Начните путешествие в мир микро- и нанолитографии
Компания «ZEPTOOLS» самостоятельно разработала и предлагает комплексное решение для микро‑ и наноанализа.
Рекомендуемые товары
Получить последнюю версию справочника
Свяжитесь с нами
Телефон:15756003283
Электронная почта:support@zeptools.com
Адрес: провинция Аньхой, город Тунлинь, Электронный парк предпринимательства «Дунши», д. 15