Цзэюй Технологии | От критерия Рэлея до цифрового светового поля: пределы разрешения литографии и компромиссы в инженерной практике
В области микро‑ и наноинженерии преобразование цифровых чертежей, полученных в рамках компьютерного проектирования, в физические устройства с заданными функциями опирается на комплекс высокоточных технологических процессов; при этом литография несомненно является краеугольным камнем, определяющим геометрическую структуру устройств. Однако, как и во всех физических системах, разрешающая способность оптической литографии ограничена её внутренними физическими законами. В данной статье, исходя из классической оптической теории, рассматриваются факторы, влияющие на разрешение литографии, анализируются основные методы повышения разрешения и, наконец, уделяется внимание новому направлению — бесмасочному литографированию, которое, сохраняя высокую точность, обеспечивает уникальную ценность для ускоренной разработки и широкого спектра применений.
