Главная
Продукт
Сканирующий электронный микроскоп
DMD‑литографический аппарат без маски
Электронно-лучевой литограф EBL
Ступенчатый инструмент
Текущие решения TEM
Нанометрическая станция
Приложения
Случай применения
Новости компании
Техническая информация
О ZEPTOOLS
О компании
Подбор персонала
Свяжитесь
Контактная информация
Онлайн сообщение
Язык
中文简体
English
Russian
Новости и информация
ИНФОРМАЦИЯ О НОВОСТЯХ
Знание продукта
Проектирование экспериментальной схемы наблюдения за процессом разрушения материалов на установке для растяжения в режиме сканирующей электронной микроскопии
В исследовании материаловедения наблюдение за поведением материала при разрушении под действием нагрузки является ключевым фактором оптимизации его свойств. Традиционные испытания на растяжение позволяют получать лишь макроскопические данные, тогда как установка для растяжения in situ в сочетании со сканирующим электронным микроскопом (SEM) позволяет в режиме реального времени отслеживать эволюцию микроструктуры материала и выявлять механизмы разрушения. Установка для растяжения in situ PicoFemto компании Zeyou Technology совместно с настольными сканирующими электронными микроскопами серии ZEM предоставляет эффективное решение для таких исследований и широко применяется для анализа поведения при разрушении в области высокопрочных сплавов, композитных материалов, керамик и других материалов.
22
2025
/
07
Как уменьшить погрешность при анализе химического состава металлов с помощью сканирующего электронного микроскопа и EDS?
В исследованиях металлических материалов совмещённое использование сканирующего электронного микроскопа (SEM) и энергодисперсионного рентгеновского спектрометра (EDS) является ключевым методом быстрого анализа элементного состава. Однако на практике погрешности нередко возникают из‑за таких факторов, как подготовка образцов, настройка параметров и воздействие внешней среды.
Что лучше подходит для получения изображений биологических образцов — полевая эмиссионная электронная пушка (FEG) или вольфрамовая нитевая пушка сканирующего электронного микроскопа?
В исследованиях биологических наук сканирующий электронный микроскоп (СЭМ) является ключевым инструментом для раскрытия микроструктуры биологических образцов. От ультраструктуры клеток до вирусных частиц, от тканевых срезов до интерфейсов биоматериалов — потребность биологов «видеть более чётко и более детально» неуклонно растёт. При этом основной компонент СЭМ — электронная пушка (электронная пушка полевой эмиссии FEG по сравнению с вольфрамовой нитевой пушкой) — именно тот элемент, который определяет качество изображения.
21
Как выбрать сканирующий электронный микроскоп с высоким разрешением для изучения морфологии поверхности наноматериалов?
В исследованиях наноматериалов точное наблюдение за поверхностной морфологией является ключевым этапом, позволяющим раскрыть их свойства и оптимизировать эксплуатационные характеристики. Сканирующий электронный микроскоп (СЭМ), благодаря своей способности формировать изображения с разрешением на наноуровне, стал основным инструментом для характеристики наноматериалов. Однако, сталкиваясь с широким ассортиментом сканирующих электронных микроскопов на рынке, как выбрать высокоразрешающее устройство, подходящее для изучения поверхностной морфологии наноматериалов?
Технология электронно-лучевой литографии: технические предпосылки, принципы работы, ключевые вызовы и инновационные приложения
Электронно‑лучевая литография (Electron Beam Lithography, далее — EBL) является фундаментальным инструментом современной полупроводниковой промышленности и области микро‑ и нанообработки; это единственный метод нанофабрикации, позволяющий исследовать такие перспективные технологии, как квантовые вычисления и двумерные материалы. Благодаря своей наноразрешающей способности — до 2 нм — и преимуществу прямой записи без масок она незаменима в высокотехнологичном производстве полупроводников, в создании квантовых устройств и в передовых научных исследованиях.
Применение технологии безмасочного фотолитографирования в двумерных материалах
Двумерные материалы — это новые типы материалов, обладающие толщиной на уровне атомов (обычно всего в один или несколько атомных слоёв) и распространённые в двух измерениях (в плоскости), тогда как третье измерение (по толщине) ограничено нанометровыми масштабами.
15