1. Что такое безмасочная литографическая установка?

Безмасочная литографическая установка — это передовое литографическое оборудование, не требующее физических масок; она формирует литографические рисунки динамически с помощью цифрового микрозеркального устройства (DMD), обеспечивая гибкую и высокоэффективную обработку структур на микронном уровне. В основе этого подхода лежит использование пространственной модуляции света, реализованной DMD: компьютерный проект рисунка непосредственно проецируется на поверхность подложки, что исключает такие трудоёмкие этапы традиционной литографии, как изготовление маски и её точное позиционирование, существенно сокращая сроки разработки и снижая производственные затраты.

II. Принцип работы и технические прорывы

Литографический станок без маски серии ZML компании ZEPTOOLS использует следующие ключевые технологии:

1. Динамическая проекция DMD   С помощью миллионов программируемых микрозеркал (размером всего 7,6 мкм каждый) осуществляется модуляция ультрафиолетового излучения (длина волны 405 нм), что позволяет в реальном времени проецировать цифровые рисунки на поверхность образца. Поддерживается 8‑битная градационная литография с точным управлением распределением интенсивности света, что обеспечивает одноступенчатое формирование трёхмерных микроструктур.

2. Высокоточная система движения

Линейный электродвигательный этап перемещения : Повторная точность позиционирования ±0,25 мкм, поддержка крупногабаритной стыковой литографии размером 100×100 мм
Электрический поворотный стол с функцией выравнивания : Точность регулировки наклона по осям «вверх‑вниз» и «влево‑вправо» — 1,85° на один оборот; совместим с пластинами диаметром 4 и 8 дюймов.
Лазерный активный автофокус : В режиме реального времени отслеживается смещение фокальной плоскости, обеспечивая точность многопластового нанесения рисунка ±0,5 мкм.

3. Высокоточная система движения

Поддержка импорта в форматах DXF, GDS, BMP и других; автоматическое генерирование траектории экспозиции.
Система наведения при токарной обработке автоматически вычисляет параметры поворота и смещения посредством крестообразных меток.
Функция рисования непосредственно в поле зрения микроскопа позволяет вносить пометки и вносить изменения в проект.

III. Сравнение ключевых преимуществ с традиционной литографией

IV. Типичные сценарии применения

1. Производство MEMS‑устройств

Пьезоэлектрическая микроскопическая массивная решётка (характерный размер 30 мкм)
Микрофлюидный чип (глубина каналов 10 мкм, точность стыковки ±0,3 мкм)

2. Разработка новых материалов

Наносетчатый электрод из теллура (подтверждение непрерывности ступеней высотой 30 нм)
Перенос двумерных материалов (многослойная структура Ti/Au/Ti, толщина 12 нм)

3. Сфера научных исследований и образования

Быстрое изготовление тестовых структур в университетских лабораториях
Прототипная верификация в научно-исследовательских институтах (с поддержкой совместимости с 8‑дюймовыми пластинами)

V. Технологическое лидерство компании «ZEPTOOLS»

Являясь ведущим отечественным предприятием в области DMD‑литографии, компания «ZEPTOOLS» последовательно продвигает замещение импортных решений отечественными аналогами:

Патентные барьеры : Алгоритм градации серого и технология компенсации точности сращивания, обладающие независимыми правами интеллектуальной собственности
Интеграция по всей цепочке : Вертикальная интеграция — от оптимизации источника света (массив светодиодов с высокой однородностью излучения на длине волны 405 нм) до управления движением (повторное позиционирование с точностью ±0,25 мкм)
Экологическое строительство : Вместе с программным обеспечением ZEPTOOLS реализуется полный цикл управления — от проектирования до серийного производства.

VI. Отраслевая ценность

Внедрение литографического оборудования Zeyou без маски позволило китайским компаниям добиться ключевых технологических прорывов в следующих областях:

Революция затрат : Стоимость одного показа снижена до 1/10 от традиционного решения
Гибкое производство : Сроки доставки образцов сокращены с недельного уровня до часового
Инновации — это сила : Обеспечение базовой инфраструктуры для таких новых перспективных направлений, как медицинские МЭМС и гибкая электроника

Ссылка на официальный сайт ：www.zeptools.cn
Техническая поддержка ： support@zeptools.com
Национальная сеть обслуживания : Четыре крупнейших центра — Шанхай, Пекин, Дунгуань и Тунлинь

Немедленно проконсультируйтесь : Получите бесплатный образец и тестовый план — ускорьте свои инновации в области микро- и нанотехнологий!

Ключевые слова: фотолитографический аппарат без маски / DMD‑технология фотолитографии / производство МЭМС / микрожидкостные чипы / отечественная замена / градиентная фотолитография / оборудование для прецизионной обработки / локализация производства полупроводникового оборудования