Проблема лучевых артефактов при получении изображений на сканирующем электронном микроскопе (SEM) может быть обусловлена как самим образцом, так и параметрами прибора. Ниже приведены некоторые распространённые методы решения этой проблемы:

Подготовка образца: При подготовке образцов по возможности избегайте использования материалов с высокой отражательной способностью или высоким коэффициентом поглощения. Выбирайте подходящие поддерживающие материалы или покрытия для образцов, чтобы уменьшить их взаимодействие с электронным пучком.

Регулировка параметров электронного пучка: Регулируют параметры электронного пучка в СЭМ, включая энергию пучка, ток, фокусировку и контрастность, чтобы уменьшить артефакты, вызванные пучком. Как правило, снижение энергии пучка и повышение контрастности позволяют сократить проявление артефактов.

Наклон образца: Наклоните образец под небольшим углом, чтобы изменить угол падения электронного пучка на поверхность образца, уменьшив явления отражения и рассеяния и тем самым сократив появление артефактов.

Соответствующий выбор детектора: Выберите подходящий детектор для оптимизации сигнала изображения. Например, использование детектора обратнорассеянных электронов (BSE) позволяет уменьшить артефакты, вызванные отражёнными электронами с поверхности образца.

Металлизация образца: Образцы подвергают металлизации, например, методом вакуумного испарения или сputтеринга, чтобы повысить их поверхностную проводимость и уменьшить отражение и артефакты пучка.

Реальное время мониторинга и корректировки: Во время проведения изображения осуществляется непрерывный мониторинг изображений, получаемых на СЭМ, а параметры электронного пучка и положение образца корректируются по мере необходимости для минимизации влияния артефактов, обусловленных воздействием пучка.

Обработка данных: После получения изображения, полученного методом СЭМ, можно применять программы обработки изображений для его постобработки — например, устранения артефактов, повышения контрастности и т. п. — с целью улучшения качества изображения и снижения влияния артефактов.

Сочетание вышеперечисленных методов позволяет эффективно уменьшить или устранить явление пучковых артефактов при получении изображений на сканирующем электронном микроскопе, что обеспечивает более точные и чёткие результаты визуализации.

Термостатический сканирующий электронный микроскоп серии ZEM компании ZEPTOOLS

Компания «Аньхой Цзэюй Технологии» — это научно‑инструментальная фирма, обладающая полностью самостоятельными правами интеллектуальной собственности. С начала 1990‑х годов, когда была начата разработка электронных микроскопов и сопутствующего оборудования, её исследовательская команда неизменно стремится предоставлять высококачественные приборы для нанонаучных исследований. В настоящее время компания располагает в том числе… Пико Фемто Серия Система измерений в режиме in situ с использованием ТЭМ 、 Система измерений СЭМ в нативном состоянии 、 Настольный сканирующий электронный микроскоп серии ZEM 、 Ступенчатый измеритель серии JS 、 Нано‑пьезо‑столик 、 Станок для переноса двумерных материалов 、 Пробоночная платформа и низкотемпературная система 、 Линейка с дифракционной решёткой Ряд продуктовых линеек, включая …, привлекли широкое внимание как на внутреннем, так и на международном рынках, заполнив многочисленные пробелы в отечественной сфере научно‑измерительных приборов.