Создание отечественного электронно‑лучевого литографического оборудования, обеспечивающего независимый и контролируемый доступ к ключевым технологиям, является важным этапом в обеспечении самостоятельности и контроля над цепочкой поставок интегральных схем Китая. В последнее время проект по разработке и промышленному внедрению полностью автономного электронно‑лучевого литографического аппарата, реализуемый совместно компанией «ZEPTOOLS» и Материаловедческой лабораторией Суншаньху, достиг значительного прогресса: успешно создано электронно‑лучевое литографическое устройство, что позволило добиться полной независимости и контроля над всей системой. Это знаменует собой важный шаг в развитии и промышленном освоении отечественных электронно‑лучевых литографических машин.

Электронно-лучевая литография — это процесс, при котором сфокусированный электронный пучок используется для экспонирования определённых полимеров (электронно-лучевых фоторезистов), а затем с помощью проявления формируется необходимый рисунок. Прибор, создающий сфокусированный электронный пучок и обеспечивающий его сканирование по заданной траектории, называется электронно-лучевым литографическим аппаратом. Это один из важнейших инструментов, способствующих развитию таких направлений, как новые материалы, передовые физические исследования, полупроводниковая и микроэлектронная технологии, а также фотоника и квантовые исследования. Ранее мировой рынок электронно-лучевых литографических систем был крайне концентрированным и находился под монополией американских и японских компаний; Китай пока не обладал ключевыми технологиями в этой области и на протяжении длительного времени зависел от импорта соответствующего оборудования.

В целях обеспечения независимости и контроля над электронно‑лучевыми литографическими системами компания «ZEPTOOLS» на протяжении многих лет последовательно накапливала междисциплинарные ключевые технологии в области электронной оптики, микро‑ и нанотехнологий, высоковольтных источников питания и электронных источников, вакуумных систем, автоматического управления, цифровой обработки изображений и других направлений, сформировав целостную технологическую платформу и выпустив ряд популярных продуктов на основе электронного луча, включая настольный сканирующий электронный микроскоп. В марте 2023 года компания «ZEPTOOLS» совместно с Материаловедческой лабораторией Суншаньху инвестировала 24 млн юаней и учредила совместный инженерный центр. Цель — создать инновационную базу по технологии электронно‑лучевого оборудования, объединяющую научные исследования и промышленное производство. Путём глубокого развития передовых исследований и разработок в области взаимодействия электронных пучков и новых материалов обеспечить независимый и контролируемый доступ к ключевому оборудованию и общим технологиям, а также существенно повысить общий уровень инновационного потенциала и конкурентоспособность нашей страны в сфере электронно‑лучевой обработки и подготовки материалов.

В настоящее время компания «ZEPTOOLS» на основе самостоятельно разработанного корпуса сканирующего электронного микроскопа завершила создание инженерного образца электронно‑лучевого литографического станка и приступила к проведению функциональной верификации. Благодаря экспозиции тестовых образцов удается формировать сложные структуры с высоким разрешением, что соответствует передовому уровню. Данное достижение свидетельствует о значительном повышении уровня самостоятельных инновационных возможностей компании «ZEPTOOLS» в области ключевых технологий электронно‑лучевых литографических станков и их комплексной реализации. В дальнейшем компания намерена продолжать совершенствовать эксплуатационные характеристики электронно‑лучевого литографического станка, добиваясь соответствия требованиям массового применения и промышленного производства.

Уверены, что благодаря неустанным усилиям технической команды компании электронно‑лучевой литографический станок собственной разработки компании «ZEPTOOLS» в скором времени будет серийно производиться и внедрён в коммерческое использование. Это не только существенно снизит стоимость оборудования для производства высококлассных микросхем на отечественном рынке, но и позволит преодолеть технологические барьеры зарубежных компаний, обеспечив страну независимыми и контролируемыми технологиями электронно‑лучевой литографии, стимулируя импортозамещение и надёжно защищая информационную безопасность государства.

Ниже приведены некоторые примеры применения электронно-лучевых литографических систем: