【Изготовление устройств на основе двумерных материалов】Применение безмасочного литографического аппарата компании «ZEPTOOLS» в производстве MEMS‑датчиков давления


Дата публикации:

2024-04-29

В современную эпоху стремительного развития науки и технологий технологии микроэлектромеханических систем (MEMS) превратились в ключевую силу, стимулирующую инновации в области современных сенсорных технологий. Мембранные датчики давления на основе MEMS, являясь одним из важнейших направлений этой области, широко применяются в биомедицине, авиакосмической отрасли, автомобильной промышленности и других сферах. По мере роста требований к характеристикам сенсоров исследователи активно ищут новые материалы и технологии, направленные на создание датчиков давления с повышенной чувствительностью, более быстрым откликом и улучшенной стабильностью.

В современную эпоху стремительного развития науки и технологий технологии микроэлектромеханических систем (MEMS) превратились в ключевую силу, стимулирующую инновации в области современных сенсорных технологий. Мембранные датчики давления на основе MEMS, являясь одним из важнейших направлений этой области, широко применяются в биомедицине, авиакосмической отрасли, автомобильной промышленности и других сферах. По мере роста требований к характеристикам сенсоров исследователи активно ищут новые материалы и технологии, направленные на создание датчиков давления с повышенной чувствительностью, более быстрым временем отклика и улучшенной стабильностью.

Основное направление настоящего исследования — разработка пьезорезистивного датчика давления на основе двумерного (2D) материала PdSe2. PdSe2, как перспективный 2D‑материал, привлекает внимание благодаря выдающимся характеристикам чувствительности к деформации и регулируемым электронным свойствам. Однако традиционные методы химического осаждения из газовой фазы (CVD) для получения 2D‑пленок обладают определёнными ограничениями: сложность процесса трансфера и образование дефектов решётки при высокотемпературной обработке, что затрудняет применение 2D‑материалов в MEMS‑датчиках давления.

В ответ на указанные выше проблемы исследовательская группа профессора Ли Чуня из Государственной ключевой лаборатории электронных тонких плёнок и интегральных устройств при Университете электронных наук и технологий успешно использовала безмасочную литографическую установку компании «ZEPTOOLS» для изготовления дифференциального датчика давления на основе тонкой плёнки PdSe2. Это устройство, благодаря своей уникальной технологии сращивания нанопьезоэлектрических позиционирующих столов, технологии экспонирования с помощью красного света, принципу «что видишь — то и получаешь», а также преимуществам алгоритма коррекции OPC, обеспечивающего оптимизацию качества изображения, оказало весомую поддержку данному эксперименту.

Результаты соответствующих исследований были опубликованы в известном журнале «Nanotechnology» под названием «Дифференциальные датчики давления на основе безпереходных пьезорезистивных слоистых тонких пленок PdSe2».

В ходе эксперимента учёные сначала с помощью технологии плазменного усиления селенирования (PES) непосредственно вырастили на мембране из SiNx поликристаллическую пленку PdSe2. Этот инновационный процесс роста при низких температурах не только исключил сложные этапы переноса, характерные для традиционного химического осаждения из газовой фазы (CVD), но и существенно улучшил чувствительность материала к деформации. С использованием данной методики исследовательская группа успешно получила пленку PdSe2 толщиной 7,9 нм и провела всестороннюю характеристику её структуры и химического состава с помощью атомно‑силового микроскопа (AFM), рамановской спектроскопии, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS) и просвечивающего электронного микроскопа (TEM).

Характеризация пленки PdSe2

В данной работе экспериментально подтверждены выдающиеся пьезорезистивные свойства тонких плёнок PdSe2, что в значительной степени обусловлено их уникальной кристаллической структурой и электронными характеристиками. С помощью метода конечных элементов (FEA) была смоделирована распределение деформаций в плёнке SiNx при различных уровнях давления; исследовательская группа разработала U‑образный резистор, обеспечивающий значительную деформацию под действием давления и тем самым позволяющий чувствительно регистрировать изменения сопротивления плёнки PdSe2.
 

Далее исследовательская группа применила схему моста Уитстона для повышения температурной стабильности датчика и экспериментально подтвердила, что данная схема эффективно подавляет температурный дрейф в диапазоне от 25 °C до 55 °C. Результаты экспериментов показали, что датчик при разностном давлении от 0 до 60 кПа демонстрирует высокую чувствительность — 3,9 × 10⁻⁴ кПа⁻¹, а время отклика составляет менее 97 мс, что свидетельствует о его потенциале в быстром реагировании на изменения давления.

Характеристики дифференциального датчика давления на основе пленки PdSe2

Кроме того, исследование продемонстрировало стабильность и надёжность данного MEMS‑датчика давления при циклических процессах нагружения и разгрузки. В ходе циклических испытаний в диапазоне давлений от 0 до 60 кПа датчик показал высокую механическую долговечность и повторяемость сопротивления, что крайне важно для обеспечения долгосрочной стабильности в реальных эксплуатационных условиях.

Технология Цзэюй — фотолитографический аппарат без маски

 
В данном исследовании ключевую роль сыграл безмасочный литографический аппарат компании «ZEPTOOLS», который позволил исследовательской группе с чрезвычайно высокой точностью формировать на кремниевых пластинах структуры размером от микронного до наноразмерного масштаба; это имеет исключительно важное значение для производства микромеханических систем (MEMS) — датчиков давления, и обладает следующими особенностями:

1. Технология стыковки нано‑пьезоэлектрических этапов перемещения: Эта технология позволяет оборудованию при выполнении обработки тонких рисунков обеспечивать высокоточное позиционирование и стыковку, что имеет решающее значение для производства высокопроизводительных МЭМС‑устройств.

2. Красное световое руководство экспозицией: Установленная система красного светового наведения позволяет оператору наглядно видеть зону экспозиции, что повышает точность обработки и упрощает управление.

3. Что видишь — то и получаешь: Интерфейс управления выполнен в интуитивно понятном стиле; пользователь может в режиме реального времени наблюдать за процессом обработки и её результатами, что обеспечивает высокую точность и повторяемость.

4. Алгоритм коррекции OPC: Встроенный алгоритм коррекции оптического ближнего эффекта (OPC) позволяет компенсировать возможные искажения рисунка в процессе литографии, улучшая качество изображения и повышая точность обработки.

5. Автоматическая фокусировка ПЗС‑камеры по кадрам: Установленная ПЗС‑камера обеспечивает автоматическую фокусировку по каждому кадру, что гарантирует чёткость изображения и высокую точность фокусировки на протяжении различных этапов обработки.

6. Технология градационного выравнивания освещённости: Благодаря точному контролю распределения источников света экспозиции удалось добиться более равномерного эффекта экспонирования, что имеет решающее значение для повышения однородности и качества рисунка.

Поделиться в

Вернуться к списку